Проблемы автолегирования в процессе газофазной

Актуальные вопросы газофазной эпитаксии кремния.                            7

1.1.   Проблемы автолегирования в процессе газофазной

эпитаксии кремния.                                                                      10

1.2.   Низкотемпературные процессы эпитаксии кремния.             13

1.3.   Взаимосвязь условий формирования эпитаксиальных

слоев и их структурного совершенства.                                     19

1.4.   Процессы эпитаксии в технологии приборов и схем.

1.4.1. Проблемы формирования тонких эпитаксиальных слоев.  21

1.4.2. Локальная эпитаксия кремния.                                             23

Выводы.                                                                                           29

ГЛАВА 2. Методика разработки программы.

2.1.   Структура обучающей программы.                                       32

2.2.   Библиотека графических функций.                                         34

2.3.   Генератор графических интерфейсов.                                    35

2.4.   Библиотека математических функций.                                    37

2.5.   Библиотека функций мыши.                                                    38

2.6.    Используемые стандартные библиотеки.                              40

2.7.   Нестандартные приемы.                                                          41

2.8.   Работа с программой Depos.                                                  42

Выводы.                                                                                           50

ГЛАВА 3. Разработка обучающей программы

«Газофазные процессы эпитаксии кремния».                                           51

3.1.   Термодинамический анализ системы Si-Cl-H.                        52

3.2.   Влияние режимов эпитаксии на микроморфологию поверхности.     57

3.3.   Изучение явления автолегирования в процессе газофазной

эпитаксии кремния.                                                                      62

3.4.   Изучение особенностей локальной эпитаксии кремния.        65

3.5.   Оптимизация режимов низкотемпературного

эпитаксиального процесса.                                                      68

Вывод.                                                                                              71

ГЛАВА 4. Обеспечение производственно-экологической безопасности при работе оператора ПЭВМ.                                                                                      72

4.1.   Введение.                                                                                  73

4.2.   Возможные вредные факторы, их анализ и характеристика.     74

4.3.   Общие требования к помещению машинного зала.               75

Основные требования к освещению.

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector