Наличие фторуглеродной пленки на поверхности

Наличие фторуглеродной пленки на поверхности диоксида кремния подтверждается исследованием поверхности пластины, прошедшей обработку в плазме CHF3, методами вторично – ионной масс – спектрометрии (ВИМС) и электронной оже — спектроскопии (ЭОС). При распылении поверхностной пленки нейтрализирующим электронным пучком (метод ВИМС) наблюдалась десорбция F с поверхности. Анализ проводился в пяти диаметрально противоположных точках исследуемой пластины. Полученный профиль (см. рис.11) ясно указывает на наличие в пленке слоя с F.

При использовании метода ЭОС, применяемого совместно с ионным распылением, получены оже — спектры  поверхности пластин (см. рис.11 а и б). На рисунке 11а показан спектр, полученный при распылении ионами толщины поверхностной пленки порядка 1,0 нм. Анализ энергетического спектра подтверждает наличие на поверхности следов F и C (CH). После распыления 2,5 нм поверхностной пленки в полученном спектре наблюдается только SiO2

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector