Один из новейших процессов микрообработки – процесс LIGA

Один из новейших процессов микрообработки – процесс LIGA (Аббревиатура LIGA происходит от немецкого названия Roentgen Lithography Galvanik Abformung, сокращение терминов рентгенолитография, гальваника и формовка, комбинирующая методы рентгеновской литографии, гальваники и технологии микроформирования.

Сущность процесса заключается в использовании рентгеновского излучения от синхротрона для получения глубоких, с отвесными стенками топологических картин в полимерном материале. Излучение синхротрона имеет сверхмалый угол расходимости пучка. Источником излучения являются высокоэнергетические электроны движущиеся с релятивистскими скоростями. Глубина проникновения излучения достигает единиц миллиметров. За счет локализации излучения в узком телесном угле яркость источников синхротронного излучения в 106 больше, чем у стандартных источников рентгеновского излучения и плотность мощности достигает 105 — 106 Вт/см2. Это обуславливает высокую эффективность экспонирования при малых временных затратах. Процесс LIGA позволяет формировать структуры с оптимальным отношением высоты и ширины.

Преимуществами технологии LIGA являются возможность изготовления структур с высоким разрешением топографического изображения, многократного тиражирования и получения свободно перемещаемых структур, разнообразие материалов.

Среди недостатков высокая сложность изготовления, дороговизна маски и экспонирования и, ряд ограничений: возможности комбинирования с полупроводниковой технологией (КМОП).

Процесс LIGA значительно расширяет возможности микрообработки, делая возможным формирование вертикальных кантилеверов, катушек, микрооптических устройств, микросоединений и актюаторов.

1.1 Процессы сухого травления

Как было показано выше, к процессам сухого травления относятся процессы плазменного травления и реактивного ионного травления, с помощью которых можно получать структуры, получение которых невозможно с использованием процессов жидкостного химического травления.

Плазменное травление – это процесс травления с использованием газообразного травителя вместо жидкости для химического травления структуры. Плазменное сухое травление – это важнейший процесс в масштабном производстве интегральных схем. Процессы плазменного травления можно разделить на четыре класса: напыление (рисунок 11.3 (а)), химическое травление (рисунок 11.3 (б)), энергетическое или ионное травление (рисунок 11.3 (в)) и пристеночное ингибиторное ионно-анизотропное травление (рисунок 11.3 (г)).

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector