параметры моделей травления/осаждения в программе

 

            Параметры моделей травления/осаждения в программе DIOS.При моделировании процессов травления и осаждения в ходе приборно-технологического моделирования интегральных структур используются модели геометрического типа. Они позволяют рассчитывать распределенное изменение толщин слоев в структуре, оперируя значениями локальной скорости травления/осаждения или ее зависимостью от угла между поверхностью слоя и направлением потока частиц. Влияние физических или химических процессов, а также свойств материала на форму и микроструктуру осаждаемых слоев не учитывается.

            Осаждение во входном командном файле программы DIOS описывается командой Deposit(<параметры процесса>). К основным параметрам процесса относятся:

— осаждаемый материал, Material=<…>;

— толщина осаждаемого слоя, Thickness=<…> или время осаждения и скорость, Time=<…>, GrowthRate=<…>;

— тип процесса, DType=<…>.

Тип процесса задается, если осаждение не является изотропным. Кроме того, перечисленные параметры имеют значения, используемые «по умолчанию»:

Material=Oxide, Thickness=300nm, GrowthRate=100nm/min. Таким образом, если не задать в команде Deposit ни одного параметра, то на имеющуюся структуру будет осажден изотропно слой окисла толщиной 300 нм. Примерная картина до и после

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector