Литография – это процесс формирования в активночувствительном слое,

IBMв Йорктауне Рик Дилл начал работы по созданию основных математических уравнений литографии. В то время работы такого рода воспринимались с большой долей скептицизма, поскольку результаты интуитивной подгонки параметров процесса давали вполне приемлемые для того уровня технологии результаты. Не смотря на такую оценку, результаты этих работ были опубликованы в 1975 году и сейчас широко известны под названием Dillpapers. Таким образом, эти материалы явились первой серьезной попыткой описать литографию с научной точки зрения.

В 1992 году был преодолен барьер в 0.35 мкм, для этого использовалась i-линия ртутной лампы высокого давления с длиной волны 365 нм. Дальнейшее уменьшение критических размеров на пластине происходило за счет сокращения длины волны источника излучения. В 1996-98 г. В качестве источников излучения начали использовать излучение эксимерных лазеров на KrF и ArF, что позволило сократить длину волны излучения до 248 нм и 193 нм соответственно.

Благодаря переходу на источники излучения, действующие в спектре глубокого и экстремального ультрафиолета (УФ), с длиной волны 248 нм (эксимерные KrF-лазеры) и 193 нм (эксимерные ArF-лазеры), стало возможным получать 45-нанометровые линии, а это уже четверть длины волны. При использовании иммерсионных жидкостей этот показатель может достигнуть значения в одну шестую λ.

Достижение топологических размеров в 100 нм и меньше, потребовало уменьшения длины волны излучения. Переход на излучение с длиной волны 157 нм (эксимерные F-лазеры) пока не возможен, т.к. возникают проблемы как с оптикой для данной длины волны, так и с источниками излучения, удовлетворяющими требуемым параметрам (мощность, когерентность, направленность и т.д.). Также существует проблема с поиском ФР, имеющиеся материалы-кандидаты обладают коэффициентом теплового расширения, в десятки раз большим, чем у кварца, поэтому искажений избежать будет очень трудно. Для масок можно было бы применять особые виды кварца, но приемлемые ФР материалы для излучения с подобной длиной волны пока еще не найдены.

Общие сведения о литографии

Литография – это процесс формирования в активночувствительном слое, нанесенном на поверхность подложек, рельефного рисунка, повторяющего топологию полупроводниковых приборов или ИМС, и последующего переноса этого рисунка на подложки[4].

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector