Принципы выбора рабочих газов

Таким образом, анализ конструктивных и физико-химических особенностей формируемой структуры особенностей и изделия в целом, и соответственно их возможного влияния на качество разрабатываемого процесса, можно определить как третий этап при проведении разработки нового процесса плазменного травления. Данные этого анализа, в частности, могут послужить причиной корректировки выбора типа используемого источника, а также принятию решения об использовании многостадийных обработок структуры. Например, введение в технологический процесс стадии предварительной очистки, очистки поверхности после травления, антикоррозионной плазменной обработки (как, например, при травлении слоев алюминия), введении дополнительных обработок для устранения привнесенных дефектов и т.д. При этом в зависимости от конкретных особенностей формируемой структуры и технологии изготовления микроэлектронного изделия в целом, может потребоваться последовательное использование различных типов плазменных реакторов. Во многих случаях для этих целей может подойти только кластерное плазменное оборудование, позволяющее проводить несколько видов обработки в едином вакуумном цикле.

 

5.3 Принципы выбора рабочих газов

Решение об использовании того или иного газового состава должно приниматься с учетом достаточно большого числа взаимозависимых параметров. Во-первых, это свойства самих компонентов газовой смеси – для каких целей тот или иной компонент рабочей газовой смеси включается в ее состав: как источник химически активных частиц, источник пассивирующего компонента или источник тяжелых ионов. Во-вторых, необходимо оценить экологическую опасность, как самого исходного газа, так и продуктов плазменных реакций, образующихся при его участии, а также характер взаимодействия газа или его компонентов с конструктивными элементами используемого технологического оборудования. Кроме того, исходный состав газов во многом будет определять степень отрицательных воздействий данного типа обработки на формируемые структуры (см. таблицы 5.3 и 5.4).

Приемлемые характеристики переноса изображения в процессах плазменного травления трехмерной структуры могут быть получены, если на критических поверхностях во время воздействия плазмы формируются относительно толстые (более 2 нм) нелетучие реакционные слои. Это требует использования определенных параметров травления, таких

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector