Два основных элемента системы – катод 4 и анод 9

Два основных элемента системы – катод 4 и анод 9 – располагаются в рабочей вакуумной камере 2. Катод через высоковольтный ввод 1 подсоединяется к отрицательному полюсу высоковольтного источника. Подлежащий распылению материал в виде пластины 5 прикрепляется к катоду. Эту пластину обычно называют мишенью. Анод 9, находящийся под потенциалом земли, располагается на расстоянии в несколько сантиметров от катода. Подложки 8, на которые наносят пленки, закрепляют на аноде. При подаче на катод напряжения порядка 3 – 5 кВ в камере возникает плазма тлеющего разряда.

Как уже отмечалось, для тлеющего разряда характерно определенное распределение потенциала в пространстве между катодом и анодом. Причем в основном падение приложенного напряжения происходит на темном катодном пространстве 6. Ионы 12, диффундирующие к границе положительного столба 7, попадают на границу темного катодного пространства и, ускоряясь в нем под действием электрического поля, бомбардируют мишень – катод. Выбиваемые из нее частицы 11 распыляемого вещества летят по направлению к аноду и осаждаются на подложке в виде тонкой пленки.

Скорость нанесения тонких пленок в диодных системах составляет около 0,5 нм/с.

Как катод, так и анод охлаждаются холодной водой, что предохраняет их от перегрева. Кроме того, с обратной стороны мишени на расстоянии 3 – 5 мм

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector