Механизм ионного распыления.

Механизм ионного распыления. 

В основе процесса ионного распыления лежит механизм физического распыления материалов. При ионном распылении удаление поверхностных слоев материалов осуществляется за счет физического распыления энергетическими ионами инертных газов или ионов, химически не реагирующих с обрабатываемым материалом. Проведенные к настоящему времени многочисленные экспериментальные и теоретические исследования доказывают, что основным механизмом взаимодействия между бомбардирующими ионами и атомами материала является процесс передачи импульса, т.е. распыление осуществляется за счет упругих столкновений, приводящих к прямому выбиванию атомов из равновесных состояний (см. рис.3.4).  В атомном масштабе это явление сравнимо с ударом двух бильярдных шаров, из которых один представляет собой падающий ион, а другой – атом твердого тела, встреченного ионом. При распылении вещества 3 ион 1 передает импульс энергии его атому, который, в свою очередь, может передать импульс другим атомам, вызвав тем самым каскад столкновений, как это показано стрелками на рисунке 3.4. В том случае, когда поверхностный атом 2 распыляемого материала получит достаточный для разрыва связи с ближайшими соседними атомами импульс энергии, направленный от поверхности, он покинет ее. Направление полета этого атома соответствует направлению полученного

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector