Схема и описание установки нанесения пленок из парогазовой фазы.

1.      Схема и описание установки нанесения пленок из парогазовой фазы.

2.      Процесс адсорбции. Характеристики адсорбентов.

3.      Физика процесса удаления растворителя при сушке пленки фоторезиста.

4.      Задачи геометрического разбиения топологических фигур на элементарные прямоугольные элементы.

5.      Устройство и схема расчета адсорбционной колонны.

6.      Схемы и описание установок с различными видами нагрева для сушки фоторезиста.

7.      Характеристические коэффициенты ОС и их свойства.

8.      Процесс ионообменной очистки воды.

9.      Схема и порядок работы камеры термокомпрессионной сушки фоторезиста.

10.Устройство и описание работы установки централизованной очистки воды.

11.Процесс проявления фотомаски в пленке фоторезиста, клин проявления и схемы  установок проявления.

12.Устройство и принцип работы ГИ одиночного набора с «остановом».

13.Устройство и описание работы установки финишной очистки воды.

14.Особенности процесса селективного травления подложки через фоторезистивную маску.

15.Устройство и принцип работы ГИ одиночного набора «на ходу».

16.Процесс и устройство очистки подложек в парах растворителя.

17.Способы экспонирования фоторезиста и их характеристика.

18.Устройство и принцип работы ГИ группового набора.

19.Гравитационная очистка, скорость осаждения аэрозолей.

20.Назначение манипулятора в установке совмещения и экспонирования и характеристика его основных механизмов.

21.Устройство и принцип работы «монтажного» ГИ.

22.Устройства аппаратов осаждения и определение их производительности.

23.Устройство и принцип работы «комплексного» ГИ.

24.Процесс очистки в циклоне, эффективность очистки.

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector