Оборудование нанесения материалов в вакууме

ВВЕДЕНИЕ.. 4

1          Оборудование нанесения материалов в вакууме. 5

1.1   Оборудование термовакуумного испарения. 6

1.1.1Методы термовакуумного испарения материалов. 6

1.1.1.1   Резистивное испарение материалов. 6

1.1.1.2   Нанесение материалов индукционными испарителями. 8

1.1.1.3   Электронно-лучевое испарение материалов. 8

1.1.1.4   Лазерное испарение материалов. 15

1.2   Оборудование дугового испарения. 18

1.2.1Дуговые разряды в вакууме. 18

1.2.2Процессы на электродах. 22

1.2.2.1   Катодные процессы.. 23

1.2.2.2   Анодные процессы.. 27

1.2.3Дуговое испарение материалов. 28

1.3   Оборудование ионно-плазменного распыления. 32

1.3.1Разновидности методов и оборудования ионно-плазменного распыления. 32

1.3.2Диодные РС на постоянном токе без магнитного поля. 33

1.3.3Триодные и многоэлектродные распылительные системы.. 34

1.3.4Системы распыления в магнитном поле. 38

1.3.4.1   Конструктивные схемы МРС.. 40

1.3.4.2   Условия локализации плазмы в МРУ.. 43

1.3.4.3   Совершенствование конструкций МРС.. 46

1.3.4.4   Нанесение равномерных по толщине пленок с помощью МРС.. 55

1.3.5Высокочастотные распылительные системы.. 61

1.3.6Системы распыления с ионными источниками. 67

1.4   Контроль процесса осаждения. 72

1.4.1Резистивный метод. 73

1.4.2Емкостной метод. 75

1.4.3Метод кварцевого вибратора. 76

1.4.4Ионизационный метод. 78

1.4.5   Оптические методы измерения толщины пленки  80

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector