Системы плазмохимического травления

Процессы плазменного травления (ПТ) реализуются в цилиндрических реакторах объемного типа с кассетной загрузкой подложек или планарных реакторах диодного типа с размещением подложек на плоских электродах (рис. 2.8). Изотропное ПТ представляет собой хорошо разработанный метод. Оно широко используется в тех случаях, когда не требуется высокое разрешение. ПТ является также основным методом сухого проявления органических и неорганических резистов после их экспонирования ультрафиолетовым или рентгеновским излучением. С помощью ПТ можно производить травление пленок кремния и его соединений, фосфорно — и боросиликатного стекла, органических материалов, углерода, хрома, титана, тантала, ниобия, вольфрама, молибдена, ванадия, золота и других материалов. В производстве микросхем ПТ применяется для получения конфигураций с шириной линий более 2 мкм.

 

Реакторы объемного типа (рис. 2.8, а) выполнены в виде цилиндрического корпуса 1 (обычно из кварца), в котором плазма возбуждается с помощью расположенного снаружи индуктора 2, т.е. разряд является безэлектродным. Можно возбуждать ВЧ разряд и с помощью конденсаторных пластин, расположенных вокруг корпуса (емкостной разряд). Рабочий газ подается с помощью коллектора 3. Обрабатываемые подложки загружаются в реактор в специальной лодочке 4. Процесс идет при невысоких потенциалах между плазмой и подложками (до 50 В) и при высоких рабочих давлениях порядка 100 Па и выше. Недостатком реакторов объемного типа является неоднородность травления пластин. Скорости травления зависят от материалов, реагентов, давления и мощности и достигают 1 мкм/мин.

Большую равномерность обеспечивают реакторы планарного типа (рис. 2.8, б). В реакторе с радиальным потоком газа рабочий газ подается по периметру нижнего заземленного электрода 5 с пластинами и откачивается через отверстие в центре этого электрода. На верхний электрод 6 подается ВЧ потенциал. Разность потенциалов достигает несколько сотен вольт, рабочее давление лежит в диапазоне (25-65) Па. В планарных реакторах потенциал может подаваться как на верхний, так и на нижний электроды, при этом реализуются различные режимы

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector