Оптические методы измерения толщины пленки

Оптические методы измерения используют ряд оптических явлений:

     поглощение и пропускание света (фотометрические методы);

     отражение света (поляриметрические методы);

     интерферационные явления (интерферационные методы).

Фотометрические методы основаны на измерении пропускания света пленкой. Метод может быть реализован при нанесении пленки на прозрачную основу. Количество пропускаемого света зависит от толщины пленки. Для металлов можно контролировать только тонкие пленки (толщиной до 100 нм), для диэлектриков – достаточно толстые (от нескольких мкм до десятков мкм). Поэтому фотометрические методы контроля толщины пленок в основном используются при нанесении диэлектрических материалов.

Поляриметрические методы используют зависимость интенсивности отраженного света от толщины пленки. При измерении применяются поляризационные фильтры. Наиболее известен метод элипсометрии (приборы – элипсометры).

Интерферационные методы используют интерферационную картину для регистрации максимумов и минимумов (рис. 1.41), которые периодически появляются с увеличением оптической толщины пленки на величину, равную λ/4
(λ – длина волны используемого света). По количеству максимумов (или минимумов) на интерферационной картине определяется толщина пленки. Данный метод наиболее применим для контроля оптических пленок.

Практически с помощью интерферационного фильтра наблюдается свет определенной длины волны, который регистрируется фотоэлементом, сигнал с которого обрабатывается электронной схемой, содержащей счетчик (максимумов или минимумов) и дешифратор с выходом на самописец или экран дисплея.

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector