Оборудование ионно-плазменного распыления

Разновидности методов и оборудования ионно-плазменного распыления определяются типом газового разряда, используемым в качестве источника ионов, конструктивными особенностями разрядной системы и системы распыления, по способу возбуждения газового разряда и другим признакам.

В ионно-плазменных распылительных системах (РС) используют в основном три типа разряда: тлеющий, дуговой и высокочастотный.

Наиболее простыми РС являются диодные системы на постоянном токе, использующие в качестве источника ионов тлеющий разряд. Диодные РС, использующие для интенсификации процесса плазмообразования скрещенные электрическое и магнитное поля (ЕхН-поля), являются в настоящее время универсальными высокоэффективными широко используемыми системами нанесения пленочных покрытий, получившими название магнетронных РС (МРС).

Конструктивной особенностью систем с дуговым разрядом является наличие накаливаемого катода (термокатода). К РС с накаливаемым катодом относятся триодные, тетродные и многоэлектродные системы.

Одной из разновидностей РС являются системы с автономными ионным источниками (ИИ), в которых процесс ионного распыления осуществляется пучком ионов, формируемым ионным источником. В РС с ИИ плазма может быть локализована внутри ИИ, тем самым исключается ее воздействие на обрабатываемые структуры.

Для распыления диэлектрических материалов используются переменные электрические поля, обычно ВЧ-диапазона. Высокочастотные  РС (ВЧ РС) могут быть конструктивно выполнены по аналогии с обычными диодными РС на постоянном токе, но могут иметь и специальные конструктивные решения для распыляемых ВЧ-электродов.

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector