Оборудование для нанесения материалов в вакууме

Оборудование для нанесения материалов в вакууме широко используется в технологии производства изделий микро- и наноэлектроники, а также изделий микросистемной техники. В вакуумном технологическом оборудовании для нанесения пленок различных материалов используются преимущественно две группы методов:

     методы термовакуумного осаждения (испарение материалов);

     методы плазменного нанесения (дуговое испарение, ионное распыление материалов, осаждение из парогазовых смесей путем их диссоциации в плазме).

Прежде чем рассматривать процессы и оборудование вакуумно-плазменного нанесения материалов, кратко ознакомимся с альтернативными процессами и оборудованием, на смену которым пришли современные вакуумно-плазменные технологии и оборудование, а именно, процессами и оборудованием термовакуумного испарения материалов.

Ионно-плазменные методы в современном производстве являются базовыми для технологии нанесения различных материалов. Однако термовакуумное осаждение по-прежнему находит применение в ряде технологий, благодаря своей простоте, высокой производительности и невысокому уровню зарядового и радиационного воздействия на обрабатываемые структуры.

К методу и оборудованию нанесения пленок предъявляются следующие основные требования:

1        отсутствие загрязнения материала пленки;

2        сохранение стехиометрического состава многокомпонентных материалов;

3        высокая однородность наносимой пленки по толщине и структуре;

4        возможность нанесения различных по электрофизическим свойствам материалов (проводников, полупроводников, диэлектриков), т.е. универсальность метода;

5        обеспечение воспроизводимости электрофизических параметров пленок и возможность автоматизации цикла обработки от ЭВМ.

Ссылка на основную публикацию
Adblock detector